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    半導體制造過濾
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    半導體制造過濾

    半導體制造過濾

    半導體制造工藝復雜嚴苛，涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種復雜工藝，涉及光刻膠、研磨液、顯影液、蝕刻液等的過濾。囊式過濾器體積小、過濾介質損失小，一體式、安裝方便節約使用成本的特點。廣泛應用于半導體制造過濾。
    主要特點

      囊式過濾器體積小

      過濾介質損失小

      一體式、安裝方便

       節約使用成本

    應用領域： 微電子 化工
    0571-87022016
    產品描述
    料結構
    		 操作條件
    		 絕對過濾精度(um)
    濾材: PP、PES、PTFE、PVDF、N6、N66、MCE
    殼體: 聚丙烯
    密封技術: 熱熔焊接
    		 工作溫度：≤60℃
    可耐最大壓差：4 bar (21℃)
    滅菌方法：121℃/30min蒸汽滅菌
    		 0.05、0.10、0.22、0.45、1.00、5.00
    有效過濾面積
    0.11㎡/0.22㎡
    進出口方式
    		 濾芯尺寸
    螺紋式：1/4"NPT、3/8"NPT 、1/2"NPT
    插管式：1/4"寶塔接頭、3/8"寶塔接頭、1/2"寶塔接頭
    快裝式：0.5"卡盤接頭、1"卡盤接頭
    		 長度（內芯）: 2.5"、5 "
    應用領域

    制藥行業：小流量液體過濾，溶劑樣品過濾。

    電子行業：光學鏡片單體過濾，鋰電池電解液過濾，研磨液過濾，油墨過濾等。





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