研磨拋光液過濾

研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨，拋光液用于精密磨削。半導體行業CMP工藝對拋光液雜質要求苛刻，拋光液所含的化學顆粒是非常細的，達到納米粒徑，研磨液多為微米粒徑。研磨液和拋光液整個傳輸和應用流程都會用到濾芯進行過濾，主要是對研磨液和拋光液中的顆粒進行過濾除雜。

主要特點

囊式過濾器體積小

過濾介質損失小

一體式、安裝方便節約使用成本

應用領域：微電子光刻工藝化工 CMP工藝小量試劑

0571-87022016

產品描述

材料結構	操作條件	絕對過濾精度(um)
濾材: PP、PES、PTFE、PVDF、N6、N66、MCE 殼體: 聚丙烯密封技術: 熱熔焊接	工作溫度：≤60℃ 可耐最大壓差：4 bar (21℃) 滅菌方法：121℃/30min蒸汽滅菌	0.05、0.10、0.22、0.45、1.00、5.00 有效過濾面積 0.11㎡/0.22㎡
進出口方式	濾芯尺寸
螺紋式：1/4"NPT、3/8"NPT 、1/2"NPT 插管式：1/4"寶塔接頭、3/8"寶塔接頭、1/2"寶塔接頭快裝式：0.5"卡盤接頭、1"卡盤接頭	長度（內芯）: 2.5"、5 "
應用領域
電子行業：研磨液過濾，拋光液過濾，光刻膠過濾，電子化學品過濾。制藥行業：小流量液體過濾，溶劑樣品過濾。

產品分類

認證資料